[实用新型]提高中高压腐蚀箔宽度方向及两侧表面比容均匀性的装置有效

专利信息
申请号: 202022025421.3 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN213086167U 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 马骏;马坤松;张顺华;卢京敏 申请(专利权)人: 扬州宏远电子股份有限公司
主分类号: C25F7/00 分类号: C25F7/00;C25F3/04;H01G13/00;H01G9/055
代理公司: 南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273 代理人: 张艳
地址: 225600 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种提高中高压腐蚀箔宽度方向及两侧表面比容均匀性的装置,包括竖直设置的两块规格一致的电极板和两块规格一致的侧封板,电极板和侧封板的竖向边缘相间顺次连接围绕成一个横截面为矩形的铝光箔腐蚀通道;铝光箔腐蚀通道的下端口设置有喷液盒,喷液盒上端面中间开设有喷液口,铝光箔从喷液口的中线位置穿过;每个所述侧封板在其靠近底部位置开设有两个水平的进液口,喷液口位于两个进液口的中间,每个进液口均连接有进液管道;每个侧封板在其靠近顶部的位置开设有溢流口。本实用新型使铝箔表面由腐蚀工艺所生成的孔更加均匀,铝箔的横向比容变得更加均匀且比容较高。
搜索关键词: 提高 高压 腐蚀 宽度 方向 两侧 表面 比容 均匀 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州宏远电子股份有限公司,未经扬州宏远电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202022025421.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top