[实用新型]一种基因测序基片的制备设备有效
| 申请号： | 202022055846.9 | 申请日： | 2020-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN213977736U | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 李文涛;陈子天;段海峰 | 申请（专利权）人： | 赛纳生物科技(北京)有限公司 |
| 主分类号： | C12Q1/6869 | 分类号： | C12Q1/6869;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京嘉途睿知识产权代理事务所(普通合伙) 11793 | 代理人： | 彭成 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种基因测序基片的制备设备，可以消除在玻璃上的纳米压印胶的荧光性，从而使得紫外纳米压印胶制备的微坑结构可以应用于基因测序芯片。设备包括基片、平台、光源、菲涅尔透镜；其中所述的基片为基因测序芯片的组成部分；所述基片为软压印的方法制备微结构基片；所述基片的表面有紫外纳米压印胶；所述光源为LED光源；LED光源的光经过菲涅尔透镜照射到基片上面；所述基片放置在平台上面。利用紫外光源长时间的照射玻璃上的纳米压印胶的薄层，可以消除该薄层纳米压印胶的荧光。设备方法简单，并且不会对于纳米压印胶造成损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基因 测序基片 制备 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛纳生物科技(北京)有限公司，未经赛纳生物科技(北京)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202022055846.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种高亮高透流延CPP薄膜
- 下一篇：一种基坑工程用强度高的土质边坡防护网
