[实用新型]一种物理气相沉积腔体配件装置有效
申请号: | 202022059007.4 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN213232469U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 张建锐;黄中山 | 申请(专利权)人: | 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315100 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种物理气相沉积腔体配件装置,包括第一组合腔、第二组合腔、凸柱、固定机构和顶片架;所述第一组合腔顶部的中央位置处设有顶口,所述第一组合腔表面底部的一周设有四组等距的L型插杆,所述第一组合腔的底部固定安装有第二组合腔,所述第二组合腔表面顶部的一周设有四组等距的插管,所述插管的一侧固定安装有固定机构。本实用新型设置了凸柱,第一组合腔和第二组合腔内部的两侧均设有凸柱,凸柱增大第一组合腔和第二组合腔内部两侧的表面积,从而可以提高第一组合腔和第二组合腔内部的附着力,使的第一组合腔和第二组合腔的内壁可以附着更多的附着物,使用时间更长,延长清理周期。 | ||
搜索关键词: | 一种 物理 沉积 配件 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司,未经盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202022059007.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种低温低压化学气相沉积反应腔
- 下一篇:一种电解电容器套管切断机构
- 同类专利
- 专利分类