[实用新型]一种硅片链式扩散氧化两用设备

摘要

本实用新型公开了一种硅片链式扩散氧化两用设备，其特征在于，包括形成窑炉通道的窑炉主体(2)，窑炉通道内并排设置有多个横跨窑炉通道宽度方向的陶瓷棍棒(3)，窑炉主体(2)入口端的陶瓷棍棒(3)上方设置有磷酸喷涂设备(1)，从入口端到出口端依次将窑炉主体(2)设置为可变功能区(4)、高温扩散氧化区(5)和水循环冷却区(6)，在可变功能区(4)、高温扩散氧化区(5)、水循环冷却区(6)分别连通气体输送设备(8)，水循环冷却区(6)还连通水输送设备(9)。该设备可以用于扩散、氧化两种工艺，简化了生产设备，节约了生产成本。