[实用新型]一种多层MEMS结构有效
申请号: | 202022100291.5 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN212982461U | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 吴炫烨;关一民 | 申请(专利权)人: | 上海新微技术研发中心有限公司 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81C1/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 刘星 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种多层MEMS结构,该MEMS结构包括自下而上依次堆叠于衬底上的至少两层光敏干膜,所述光敏干膜中设有空腔。本实用新型使用至少两层光敏干膜实现多层MEMS结构,各层结构更为平整,曝光更加均匀,可以减小结构误差,从而提高多层MEMS结构制造的良率。该多层MEMS结构可应用于多种微结构,包括但不限于纳米孔测序芯片。 | ||
搜索关键词: | 一种 多层 mems 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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