[实用新型]一种半导体硅片研磨装置有效
申请号: | 202022244955.5 | 申请日: | 2020-10-11 |
公开(公告)号: | CN213498152U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 王海霖 | 申请(专利权)人: | 西安市多极电磁技术有限公司 |
主分类号: | B24B7/22 | 分类号: | B24B7/22;B24B27/00;B24B41/06;B24B41/02;B24B47/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 710000 陕西省西安市高新区唐延路以东科技五*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种半导体硅片研磨装置,包括底座,所述底座上侧壁固定连接有两个支撑板,两个所述支撑板的相对侧壁共同固定连接有顶板,所述顶板的上侧壁固定连接有电机,所述电机的输出轴固定连接有第一转杆,所述第一转杆的下端固定连接有打磨石,两个所述支撑板的相对侧壁设有固定机构,所述固定机构包括放置板,所述底座上壁设有安装板,所述安装板上侧壁设有限位槽。本实用新型保证了硅片在研磨时的稳定性,使硅片在研磨过程中不会发生偏移,保证了硅片研磨后的厚度均匀和硅片产品的质量,还可以根据硅片的厚度进行高度调节,能够根据需要研磨不同厚度的硅片,扩大了装置的适用范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 硅片 研磨 装置 | ||
【主权项】:
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