[实用新型]一种基于等离子场的球磨装置有效

专利信息
申请号: 202022246857.5 申请日: 2020-10-10
公开(公告)号: CN213943366U 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 陈波 申请(专利权)人: 深圳市科力纳米工程设备有限公司
主分类号: B02C17/10 分类号: B02C17/10;B02C17/16;B02C19/18
代理公司: 深圳理之信知识产权代理事务所(普通合伙) 44440 代理人: 曹新中
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型适用于球磨技术领域。本实用新型公开一种基于等离子场的球磨装置,包括密封状态的研磨筒,该研磨筒设有分离器和与驱动轴连接的分散器,所述研磨筒设有能使研磨腔产生等离子场的等离子体发生器,该等离子体发生器包括DBD等离子体电源,所述等离子场位于DBD等离子体电源的阳极和阴极之间。研磨时分散装置,使物料与研磨球及物料与物料接触碰撞,使物料碎裂或表面形成不规则结构,当表面不规则的物料等处于由气体产生等离子体形成等离子场时,高速运动的物料在等离子场内,物料既与研磨介质间有机械作用力,又能充分与等离子体间产生作用,形成复合作用,从而大幅度提高研磨的效率。
搜索关键词: 一种 基于 等离子 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市科力纳米工程设备有限公司,未经深圳市科力纳米工程设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202022246857.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top