[实用新型]一种感光干膜曝光对位装置有效
| 申请号： | 202022329337.0 | 申请日： | 2020-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN213182317U | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 杨仁鸿;杨忠平;杨伟奕 | 申请（专利权）人： | 河源诚展科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;B24B9/00 |
| 代理公司： | 河源市华标知识产权代理事务所(普通合伙) 44670 | 代理人： | 郝红建;石其飞 |
| 地址： | 517000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种感光干膜曝光对位装置，包括曝光装置本体，所述曝光装置本体上开设有曝光槽，所述曝光槽的两侧开设有两个相互对称设置的操作腔，所述操作腔上通过滑动装置滑动连接有滑动板，所述滑动板的顶部固定连接有气缸，所述气缸的输出端固定连接有操作板，所述操作板上开设有方形槽，所述方形槽上通过调整装置固定连接有操作箱。本实用新型涉及感光干膜加工技术领域，操作简单、实施便捷，可以提高电路板感光干膜曝光处理效率的同时，降低了操作者的劳动强度，且还可以调整操作箱上修磨轮对电路板进行修磨的角度，使装置可以适用更多不同角度的翻边凸起修磨，提高了装置的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 感光 曝光 对位 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河源诚展科技有限公司，未经河源诚展科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202022329337.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
