[实用新型]一种MPCVD金刚石石膜基片有效

专利信息
申请号: 202022340359.7 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN214004777U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 满卫东;龚闯;朱长征;吴剑波;蒋梅荣 申请(专利权)人: 上海征世科技股份有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/27;C23C16/511
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 周琼
地址: 201799 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种MPCVD金刚石石膜基片,涉及石膜基片技术领域,包括基片体,所述基片体的外表面设置有防护结构和缓冲散热结构,所述防护结构包括第一防护盖和第二防护盖,所述第一防护盖的外表面一侧固定连接有第一连接杆,所述第二防护盖的外表面一侧固定连接有第二连接杆,所述基片体的外表面开设有固定孔,所述缓冲散热结构包括第一缓冲海绵和第二缓冲海绵,所述第一缓冲海绵的外表面贯穿设置有第一散热孔,所述第二缓冲海绵的外表面贯穿设置有第二散热孔。本实用新型,整个装置通过第一防护盖、第二防护盖、固定孔、第一连接杆和第二连接杆的相互作用,避免基片体因磕碰造成磨损,提高了装置的实用性。
搜索关键词: 一种 mpcvd 金刚石 石膜基片
【主权项】:
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