[实用新型]薄膜沉积设备有效
| 申请号： | 202022451467.1 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN214088650U | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 林俊成 | 申请（专利权）人： | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/54;C23C16/458;C23C16/52;C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 361006 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种薄膜沉积设备，主要包括一腔体、一进气口、一载台、一冷却气体输入管线、一挡件及一升降装置。载台及挡件位于腔体的容置空间内，而冷却气体输入管线位于载台内，并将冷却气体输送至载台与基板之间。升降装置会驱动载台及挡件相互靠近，使得挡件接触并固定载台上的基板，而后经由冷却气体输入管线将冷却气体输送至容置空间。在进行沉积步骤之前，冷却气体输入管线停止输送冷却气体，升降装置驱动载台及挡件相互远离，而后进行沉积步骤，以避免挡件接触基板，而造成基板表面沉积的薄膜的厚度不均。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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