[实用新型]一种等离子体处理设备有效
| 申请号： | 202022474308.3 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN213519855U | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 金熙中 | 申请（专利权）人： | 乐金显示光电科技（中国）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种等离子体处理设备。包括反应腔室，反应腔室包括相对设置的顶部和底部，还包括：上电极和下电极，上电极位于下电极和顶部之间，下电极位于上电极和底部之间；挡板，位于上电极和底部之间，且围绕下电极设置；挡板上设置有多个开孔；抽气泵，位于反应腔室外，底部设置有排气孔，抽气泵与排气孔连接。本实用新型实施例提供的技术方案可以促进反应腔室内气流流动，改善异物堆积问题，降低反应进程中产生异物不良的现象的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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