[实用新型]一种干膜存放架有效
申请号: | 202022545909.9 | 申请日: | 2020-11-06 |
公开(公告)号: | CN213240797U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 汪小明;张伟恩 | 申请(专利权)人: | 江西坤灿环保科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 335000 江西省鹰潭市贵溪市经*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型涉及存放干膜设备的技术领域,尤其是涉及一种干膜存放架,一种干膜存放架,包括底座,所述底座上固定连接支柱,所述支柱顶端固定连接横架,所述横架两端固定连接旋转轴,两所述旋转轴通过轴承活动连接架体,所述架体外端设有轮齿,所述轮齿啮合连接齿轮,所述齿轮由驱动电机固定连接,所述驱动电机在所述底座上,且在所述支柱一侧,所述架体内活动连接隔板。本实用新型避免了产线上的干膜堆放在干膜仓里,堆放在上方的干膜后进先出。 | ||
搜索关键词: | 一种 存放 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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