[实用新型]一种炉管及LPCVD设备有效
申请号: | 202022548837.3 | 申请日: | 2020-11-06 |
公开(公告)号: | CN213772275U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 沈雯;张临安;邓伟伟 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司 |
主分类号: | C30B28/14 | 分类号: | C30B28/14;C30B29/06;H01L31/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域,公开一种炉管及LPCVD设备。该炉管包括炉管本体和进气组件,炉管本体内承载有待沉积的硅片,炉管本体上设置有主进气口和主抽气口,进气组件设置于炉管本体的内部,进气组件包括能环设于硅片周围的进气管,进气管与主进气口相连通,在进气管上设置有多个分进气口,多个分进气口沿进气管的周向均匀且间隔设置。进气管上设置的多个均布的分进气口,能够将从主进气口进入的混合气体均匀化,使混合气体能够均匀的流到待沉积的硅片的表面,提高硅片表面的多晶硅薄膜的均匀性,减少硅片表面的色差,保证硅片的使用性能,提高电池效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 炉管 lpcvd 设备 | ||
【主权项】:
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