[实用新型]一种耐高压屏蔽栅功能MOSFET芯片有效

专利信息
申请号: 202022591957.1 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN213424996U 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 朱小雨 申请(专利权)人: 深圳市尚芯微电子科技有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06
代理公司: 深圳驿航知识产权代理事务所(普通合伙) 44605 代理人: 杨伦
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型属于半导体技术领域,提供一种耐高压屏蔽栅功能MOSFET芯片,包括N+衬底层,在所述N+衬底层上方设有N‑型基区层,在所述N‑型基区层上方嵌入有两个P型基区,在每个所述P型基区上方嵌入有两个N+集电区,屏蔽栅设置在两个所述P型基区之间深入所述N‑型基区层内部,其特征在于:所述屏蔽栅覆盖沟槽薄氧,所述沟槽薄氧内部设置有连栅极多晶硅,所述连源极多晶硅覆盖有沟槽厚氧,所述沟槽厚氧、沟槽薄氧底部设置P+型基区,所述P+型基区外部设置有P‑型包围层。能够增大了器件的击穿电压,降低了导通电阻,且有助于功能MOSFET芯片的耐高压程度。
搜索关键词: 一种 高压 屏蔽 功能 mosfet 芯片
【主权项】:
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