[实用新型]一种悬浮熔炼设备的完全无铜原子沾污的水冷铜坩埚有效
| 申请号： | 202022627123.1 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN213687812U | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 曹峻铭 | 申请（专利权）人： | 曹峻铭 |
| 主分类号： | F27B14/04 | 分类号： | F27B14/04;F27B14/06;F27B14/08;F27B14/10;F27D9/00 |
| 代理公司： | 北京嘉途睿知识产权代理事务所(普通合伙) 11793 | 代理人： | 彭成 |
| 地址： | 473000 河南省南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种悬浮熔炼设备的完全无铜原子沾污的水冷铜坩埚，适用于真空电磁悬浮熔炼技术。所述悬浮熔炼设备包括水冷铜坩埚、真空炉体、真空机组、感应电源、冷却系统和控制系统。所述水冷铜坩埚的坩埚内壁上设置有惰性涂层，所述惰性涂层为熔点高于被熔炼材料的金属，和/或与被熔炼材料同类或相同的金属。惰性涂层避免了金属熔池由于与铜质的坩埚内壁直接接触而使铜原子侵入金属熔池中，从而提高了产品的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 悬浮 熔炼 设备 完全 原子 沾污 水冷 坩埚 | ||
【主权项】：
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