[实用新型]一种磁流变抛光装置有效
| 申请号： | 202022694637.9 | 申请日： | 2020-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN214445518U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 单明星;卢明明;庄绪龙;林洁琼;夏岩岩;李锦艳 | 申请（专利权）人： | 长春博信光电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/112 | 分类号： | B24B31/112;B24B1/00;B24B41/06;B24B27/02 |
| 代理公司： | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及超精密加工技术领域，具体公开了一种磁流变抛光装置，磁流变抛光装置包括工作台、位置调节组件、抛光组件、磁流变液循环机构与水平限位组件，通过位置调节组件驱动夹持的待加工工件进行旋转，磁流变液在磁场作用下形成大面积且均匀的抛光垫，可在抛光盘进行旋转时将待加工工件进行磁流变抛光；通过水平限位组件可在抛光盘进行旋转的同时使所述抛光盘进行往复直线运动，提高了待加工工件与磁流变液的接触时间，增加了抛光轨迹的复杂性，使抛光过程中材料去除的更加均匀，工件的表面粗糙度更小，面形精度更高，解决了现有磁流变抛光装置存在无法使抛光盘在自转的同时能够同步实现直线摆动的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流变 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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