[实用新型]一种新型集成定位支撑光罩盒有效
申请号: | 202022731693.5 | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN213423697U | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 潘国军 | 申请(专利权)人: | 常州兰利电器科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 李明 |
地址: | 213001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及光罩盒使用的技术领域,尤其涉及一种新型集成定位支撑光罩盒;光罩盒主体,为盒体结构,分为上盖体和下盒体两部分;所述上盖体和所述下盒体之间设置有放置腔;掩膜版,设置在所述放置腔内;定位支撑机构,对所述掩膜版进行定位和支撑;所述定位支撑机构包括支撑顶和底座;所述底座为L型结构,两垂直边之间连接有固定杆;所述支撑顶上设置有接口槽;所述接口槽对所述掩膜版的边角进行支撑。本实用新型的目的就是针对现有技术中存在的缺陷提供一种新型集成定位支撑光罩盒,采用支撑顶和底座配合,对掩膜版进行缓冲支撑,减少了与掩膜版的接触面积,更好的保护掩膜版不受摩擦带来的静电及颗粒的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 集成 定位 支撑 光罩盒 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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