[实用新型]原子层沉积设备有效

专利信息
申请号: 202022738454.2 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN214400707U 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 林俊成;易锦良;许雲齐 申请(专利权)人: 鑫天虹(厦门)科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 361101 福建省厦门市厦门火*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开一种原子层沉积设备。所述原子层沉积设备的喷头组件用以喷洒前驱物至基板载台所承载的基板上,以实现原子层沉积制程。所述喷头组件包括第一梯形柱体部件、第二梯形柱体部件与柱体部件,第一梯形柱体部件透过其第一底边与第二梯形柱体部件的第二顶边彼此连接,以及第二梯形柱体部件的第二底边与柱体部件的柱体顶边彼此连接。所述第一梯形柱体部件具有第一底边尺径距离,第二梯形柱体部件具有第二垂直距离,以及柱体部件具有柱体垂直距离,柱体垂直距离与第二垂直距离的比值为大于或等于1.2,以及第二垂直距离与柱体垂直距离的加总小于第一底边尺径距离。透过上述设计,所述喷头组件改善前驱物喷洒至基板的均匀度。
搜索关键词: 原子 沉积 设备
【主权项】:
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