[实用新型]原子层沉积设备有效
申请号: | 202022738454.2 | 申请日: | 2020-11-24 |
公开(公告)号: | CN214400707U | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 林俊成;易锦良;许雲齐 | 申请(专利权)人: | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开一种原子层沉积设备。所述原子层沉积设备的喷头组件用以喷洒前驱物至基板载台所承载的基板上,以实现原子层沉积制程。所述喷头组件包括第一梯形柱体部件、第二梯形柱体部件与柱体部件,第一梯形柱体部件透过其第一底边与第二梯形柱体部件的第二顶边彼此连接,以及第二梯形柱体部件的第二底边与柱体部件的柱体顶边彼此连接。所述第一梯形柱体部件具有第一底边尺径距离,第二梯形柱体部件具有第二垂直距离,以及柱体部件具有柱体垂直距离,柱体垂直距离与第二垂直距离的比值为大于或等于1.2,以及第二垂直距离与柱体垂直距离的加总小于第一底边尺径距离。透过上述设计,所述喷头组件改善前驱物喷洒至基板的均匀度。 | ||
搜索关键词: | 原子 沉积 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的