[实用新型]一种曝光机用真空定位装置有效
| 申请号： | 202022803641.4 | 申请日： | 2020-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN213581737U | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 王华;陈志特;蔡富臻 | 申请（专利权）人： | 广东科视光学技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 东莞市中正知识产权事务所(普通合伙) 44231 | 代理人： | 成伟 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光机用真空定位装置，涉及光刻机技术领域，包括旋转压片和吸盘，旋转压片下方连接有旋转轴，吸盘下方设有密封轴套，密封轴套内设有密封圈，密封轴套下方设有垫片；旋转轴依次穿过垫片、密封轴套、密封圈、吸盘，并与旋转压片连接，密封轴套、密封圈、垫片均与旋转轴套接，且密封轴套、密封圈、旋转轴、垫片形成密封环境。本实用新型旋转轴依次穿过垫片、密封轴套、密封圈、吸盘，并与旋转压片连接，密封轴套、密封圈、垫片均与旋转轴套接，且密封轴套、密封圈、旋转轴、垫片形成密封环境，由于吸盘套设于密封轴套上，当玻璃与吸盘接触后形成真空环境，曝光效果好，线路板的曝光质量提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 真空 定位 装置 | ||
【主权项】：
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