[实用新型]一种等离子体化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 202022845096.5 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN213951340U | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 毛格;熊攀;王永平 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 李洋;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供一种等离子体化学气相沉积装置，所述装置包括：沉积室；与所述沉积室顶部的等离子体喷头连接的等离子体发生器，用于产生等离子体，并通过所述等离子体喷头向所述沉积室底部的基台的表面喷射所述等离子体；与所述基台连接的分压模块，用于通过调节所述等离子体喷头与所述基台之间的电场强度，以调节所述等离子体的成膜速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
