[实用新型]一种设有照射方位精密调节基座的红外传感器有效

专利信息
申请号: 202022914126.3 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN213748774U 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 胡明 申请(专利权)人: 深圳市一本自动化有限公司
主分类号: G01J5/00 分类号: G01J5/00;G01J5/02
代理公司: 深圳市辉泓专利代理有限公司 44510 代理人: 孟强
地址: 518110 广东省深圳市龙华区福*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种设有照射方位精密调节基座的红外传感器,包括固定底座,所述固定底座上竖向设置有第一旋转齿轮,所述固定底座上设置有第一调节齿轮,所述第一旋转齿轮直径大于所述第一调节齿轮的直径,所述第一调节齿轮和所述第一旋转齿轮啮合传动,所述第一旋转齿轮上设置有调节座,所述调节座上横向设置有第二旋转齿轮,所述调节座上设置有第二调节齿轮,所述第二旋转齿轮直径大于所述第二调节齿轮的直径,所述调节座上设置有红外传感器,通过扭动小齿轮带动大齿轮旋转,使大齿轮旋转角度较为精密,防止难以捕捉角度的情况出现,同时可以多角度进行调节,适用范围更广,使红外传感器的使用更加灵活,调节角度更加方便精准。
搜索关键词: 一种 设有 照射 方位 精密 调节 基座 红外传感器
【主权项】:
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