[实用新型]一种提高镀层均匀性的化学镀槽

摘要

本申请涉及一种提高镀层均匀性的化学镀槽，涉及表面处理设备领域，其包括镀槽，镀槽包括不断补充溶液的补液腔和浸泡镀件的镀件腔，补液腔位于镀件腔的下方，补液腔与镀件腔之间设置有隔板进行分隔，隔板上贯穿开设有多个连通补液腔和镀件腔的连通孔。针对现有的化学镀槽中镀件表面镀层均匀程度难以保证的问题，本申请具有提高镀槽内溶液流动性的效果，通过提高溶液流动性使镀槽内镀件的各个部位与溶液充分反应，进而提高镀件表面镀层的均匀程度。