[实用新型]压力控制系统与反应炉有效
申请号: | 202022940301.6 | 申请日: | 2020-12-10 |
公开(公告)号: | CN214012956U | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 张勇;罗伟斌;欧阳泉;罗之华 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 谢岳鹏 |
地址: | 518118 广东省深圳市坪山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种压力控制系统与反应炉,压力控制系统包括反应室、冷却装置、抽气装置、第一控制阀与第二控制阀,反应室具有第一开口;冷却装置与第一开口连通,用于对从第一开口流出的气体进行冷却,冷却装置具有供冷却后的气体流出的第二开口与第三开口;抽气装置与第二开口连通,用于调节反应室内的气压;第一控制阀连接于第二开口,用于控制第二开口的开闭;第二控制阀连接于第三开口,用于控制第三开口的开闭。上述压力控制系统的结构简单,易于实现。 | ||
搜索关键词: | 压力 控制系统 反应炉 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的