[实用新型]一种磁控溅射镀膜装置及系统有效
| 申请号： | 202022957486.1 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN214193438U | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 黄涛;刘佳明;王鹏程;刘顺明;谭彪;马永胜 | 申请（专利权）人： | 散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 郭燕 |
| 地址： | 523808 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种磁控溅射镀膜装置及系统，其中该磁控溅射镀膜装置包括升降驱动机构以及镀膜机构，镀膜机构中包括用于对管道进行镀膜的螺线管。由于将螺线管设置成可沿被镀管道的轴线方向移动的结构，其在轴向方向上移动，随之磁场移动，从而实现对管道的分段或连续镀膜，使得该磁控溅射镀膜系统可应用在管道尤其是较长管道的溅射镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 装置 系统 | ||
【主权项】：
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