[实用新型]改善生产品质的预热平台结构有效
申请号: | 202022979856.1 | 申请日: | 2020-12-14 |
公开(公告)号: | CN213519892U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 郑俊;蔡丹纯 | 申请(专利权)人: | 东莞高伟光学电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种改善生产品质的预热平台结构,其设置于芯片倒装机的机架上并位于进料轨道的下方,包括有加热底座、升降机构以及预热平台;该加热底座可上下升降活动地设置,加热底座上设置有加热棒;该升降机构设置于机架上并带动加热底座上下升降活动;该预热平台与加热底座贴合并随加热底座上下升降活动,预热平台的表面凸设有多个凸台。通过利用升降机构带动加热底座上下升降活动,使得预热平台随加热底座上下升降活动,利用预热平台上的凸台可对进入键合工作加热台以前给基板加热,改善了未能达到理想键合温度的问题,有利于提高芯片倒装键合工艺的质量,提升产品的质量。 | ||
搜索关键词: | 改善 生产 品质 预热 平台 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞高伟光学电子有限公司,未经东莞高伟光学电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202022979856.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种医用手术室专用中央控制器
- 下一篇:一种用于塑壳断路器的电动操作机构
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造