[实用新型]一种模具制备抛光机械用自调节式平衡底座有效
申请号: | 202023128834.0 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN214923409U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 杨超;陈程 | 申请(专利权)人: | 合肥科伟创精密模具有限公司 |
主分类号: | B24B41/02 | 分类号: | B24B41/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽省合肥市高新区柏堰*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及模具制备技术领域,且公开了一种模具制备抛光机械用自调节式平衡底座,包括底座,所述底座上表面的中线开设有凹槽,所述凹槽的内部活动搭接有弧形块,所述弧形块的上表面固定连接有固定板。该模具制备抛光机械用自调节式平衡底座,通过接触球的平衡位置变化,达到与不同的接触板进行接触的作用,起到控制液压缸进行运作的作用,方便对不同的转向块内部进行挤压,方便对顶杆的移动进行控制,达到调节固定板平衡的作用,利用支撑杆受到的压力达到控制通电线圈进行移动的效果,配合外磁环达到改变通电线圈内部电流的作用,达到控制液压缸运作的效果,达到调节固定板角度的作用,一定程度上进行自主调节作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 模具 制备 抛光 机械 调节 平衡 底座 | ||
【主权项】:
暂无信息
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