[实用新型]一种抛光垫及化学机械抛光装置有效
申请号: | 202023171457.9 | 申请日: | 2020-12-24 |
公开(公告)号: | CN214519536U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 周小红 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/26 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 刘鹤;张颖玲 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请实施例公开了一种抛光垫及化学机械抛光装置,所述抛光垫应用于化学机械抛光装置中,所述抛光垫用于对待处理晶圆进行抛光,所述抛光垫包括:第一部分和围绕所述第一部分的第二部分,所述第一部分为所述抛光垫的中心部分,所述第二部分为所述抛光垫的边缘部分;其中,所述第二部分包括面向所述待处理晶圆的第一表面区域,所述第二部分具有与所述第一部分相接的内侧和远离所述第一部分的外侧,所述第二部分在内侧的厚度大于所述第二部分在外侧的厚度。 | ||
搜索关键词: | 一种 抛光 化学 机械抛光 装置 | ||
【主权项】:
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