[实用新型]一种镀膜装置有效
申请号: | 202023229786.4 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN214218856U | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 刘亮;杨彦伟;邹颜 | 申请(专利权)人: | 芯思杰技术(深圳)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/458;C23C16/34 |
代理公司: | 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 44481 | 代理人: | 艾青;牛悦涵 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种镀膜装置。镀膜装置包括载板以及辅助部件,载板上开设有凹槽,辅助部件位于凹槽内,辅助部件与凹槽的内壁之间形成一用于放置基片的镀膜空间,且镀膜空间与基片的形状相适配。上述镀膜装置,辅助部件与凹槽的内壁之间形成一与基片的形状相适配的镀膜空间,不仅完整基片在镀膜时的边沿色差有所改善,而且非标准基片在镀膜时的边沿色差也有所改善,只需通过设置在凹槽内的辅助部件,由于辅助部件与凹槽的内壁之间形成合适的镀膜空间,如此,淀积氮化硅的边沿效益只会出现在辅助部件上,而不会影响基片,从而避免氮化硅的堆积对等离子场淀积到基片表面的影响,有效改善在镀膜过程中边沿色差的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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