[外观设计]半导体制造装置用反应管有效
| 申请号： | 202030742738.1 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN306663249S | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 城俊彦;坂下训康 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | 15-09 | 分类号： | 15-09 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1.本外观设计产品的名称：半导体制造装置用反应管。2.本外观设计产品的用途：本产品是在半导体制造成膜过程中，安装在成膜装置内，使产品晶圆与气体进行反应的管。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。5.设计2左视图与设计2右视图对称，省略设计2左视图;设计4左视图与设计4右视图对称，省略设计4左视图。6.指定设计1为基本设计。7.各设计的使用状态A‑A剖视参考图中D为本物品。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 装置 反应 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202030742738.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
