[发明专利]偏光片、电子装置及制备偏光片的方法在审
| 申请号： | 202080000214.2 | 申请日： | 2020-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN113597578A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 谷新;袁广才;董学;韩佳慧;黄华;梁蓬霞;郭康 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种偏光片、电子装置以及偏光片的制备方法。该偏光片包括：衬底基板和设置在衬底基板上的金属线栅结构；金属线栅结构包括：多个金属线栅层和一个或多个层叠在金属线栅层中相邻金属线栅层之间的介质层，其中多个金属线栅层中每个包括多个沿平行于衬底基板的表面的第一方向周期排列的金属线条，和多个金属线栅层中每个在垂直于衬底基板的表面的第二方向上层叠，其中所述多个金属线栅层中每个中的金属线条的周期小于或等于300nm。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 电子 装置 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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