[发明专利]掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置有效
| 申请号： | 202080002236.2 | 申请日： | 2020-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN113015821B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置。该掩膜装置包括：掩膜边框；沿第一方向延伸的至少一个第一掩膜条和沿第二方向延伸的至少一个第二掩膜条，固定在掩膜边框上；以及沿第一方向延伸的第一掩膜板，固定在掩膜边框上。第一掩膜条和第二掩膜条彼此交叉限定至少一个掩膜开口，第一掩膜板包括掩膜图案区，掩膜图案区包括阵列排布的多个孔。掩膜图案区包括第一区域和对应于第一区域的第二区域，第二区域包围第一区域，第一区域中的每个孔均为通孔，第二区域中的每个孔为通孔或盲孔。掩膜开口在第一掩膜板上的正投影至少覆盖掩膜图案区中的第一区域，第一掩膜条和第二掩膜条在第一掩膜板上的正投影至少部分覆盖掩膜图案区中的第二区域。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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