[发明专利]蚀刻液在审
| 申请号： | 202080005184.4 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN112739852A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 着能真;白滨祐二;妹尾骏作 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/44 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过干蚀刻对源极漏极间的非晶硅进行挖掘时，存在形成构成电极端子的铜/钼膜的钼膜的下侧被挖开的遮檐形状。一种蚀刻液，其特征在于，其由过氧化氢、有机酸、胺类、唑类、过氧化氢分解抑制剂和水构成，前述有机酸为选自乙醇酸、乳酸、草酸、丙二酸、马来酸、琥珀酸、苹果酸、柠檬酸、天冬氨酸、谷氨酸中的3种以上的混合物，所述蚀刻液能够将遮檐形状蚀刻成规定的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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