[发明专利]感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202080006371.4 | 申请日： | 2020-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN113168100A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 小岛雅史;上村稔;金子明弘;后藤研由;山本庆 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M |
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| 搜索关键词： | 感光 射线 辐射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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