[发明专利]在铜表面形成氧化铜的方法在审
申请号: | 202080009002.0 | 申请日: | 2020-01-15 |
公开(公告)号: | CN113316663A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | N·伍德;P·哈尔曼;T·许尔斯曼 | 申请(专利权)人: | 德国艾托特克公司 |
主分类号: | C23C22/63 | 分类号: | C23C22/63;C23C22/78;C23C22/83;C23C22/58;C23G1/10;H05K3/38 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林斯凯 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种在铜表面形成氧化铜的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供包括所述铜表面的衬底,b)任选地预清洁所述铜表面,c)使所述铜表面与碱性水性氧化溶液接触以在所述铜表面上形成所述氧化铜,所述碱性水性氧化溶液包括一种或多于一种选自由以下组成的群组的氧化化合物:‑芳香族磺酸化合物、其盐,‑芳香族磺酸酯化合物、其盐,‑芳香族硝基化合物及其盐。 | ||
搜索关键词: | 表面 形成 氧化铜 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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