[发明专利]光学系统、光学设备、拍摄装置以及光学系统和拍摄装置的制造方法在审
| 申请号： | 202080009052.9 | 申请日： | 2020-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN113302534A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 岩根透;徳永京也;伊藤智希;诹访恭一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G02B13/18;G02B17/00;G03B15/00;G03B19/07;H04N5/225 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高分辨率、具有高光学性能且小型化的光学系统、具有该光学系统的光学设备、拍摄装置以及光学系统和拍摄装置的制造方法。搭载于相机(60)等光学设备的相机模块(10)的光学系统(UL)具备校正部件、第1反射部(12a)及第2反射部(13a)，而形成物体的像，所述校正部件具有校正面(11a)，所述第1反射面(12a)对通过了校正面(11a)的光进行反射，所述第2反射面(13a)对由第1反射面(12a)反射了的光进行反射，其中，所述光学系统(UL)满足预定的条件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 拍摄 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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