[发明专利]目标递送系统在审
| 申请号： | 202080009683.0 | 申请日： | 2020-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN113303032A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | G·O·瓦申科;B·罗林格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为：确定施加到贮存器中的目标材料的压力的指示，以及基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动。而且，公开了操作供应系统的技术。例如，确定供应系统的一个或多个特性，并且基于一个或多个确定的特性来控制机械耦合到供应系统的致动器，使得供应系统的孔在操作使用期间保持基本没有材料损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 目标 递送 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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