[发明专利]光场成像系统的校准在审
| 申请号： | 202080012161.6 | 申请日： | 2020-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN113412441A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·鲍姆加特;蒂博尔·拜赖茨基;亚克·普里博斯克;扬·施泰因布伦纳;安德烈亚斯·托尔特沙诺夫 | 申请（专利权）人： | 分子装置（奥地利）有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/36 | 分类号： | G02B21/36;G06T7/557 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 李彦伯;龙涛峰 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 校准光场成像系统的方法、执行校准方法的光场成像系统、用于校准方法的校准对象、以及利用经校准的光场成像系统将光场图像投影到物体空间中的方法。示例性校准方法利用包括微透镜阵列和图像传感器的光场成像系统来执行。当校准对象在载台上并且位于多个不同的z位置处时，可以使用图像传感器捕获校准对象的光场图像的z堆叠。可以根据z堆叠的每个光场图像确定成像系统的总放大率和微透镜阵列的微透镜放大率。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 校准 | ||
【主权项】：
暂无信息
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