[发明专利]氧化铈去除组合物在审
| 申请号： | 202080012705.9 | 申请日： | 2020-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN113412326A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | A·K·达斯;M·怀特;D·怀特 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C11D1/90 | 分类号： | C11D1/90;C11D3/00;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/37;C11D3/43;C11D11/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明大体上涉及一种去除组合物和方法，其尤其适用于从上面有氧化铈粒子和CMP污染物的微电子装置，尤其具有PETEOS、氮化硅和多晶硅衬底的微电子装置清洁所述粒子和CMP污染物。在一个方面中，本发明提供利用不含硫和磷原子的络合剂处理上面有氧化铈粒子的微电子衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 去除 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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