[发明专利]x射线成像系统的校准在审

专利信息
申请号: 202080013868.9 申请日: 2020-01-28
公开(公告)号: CN113423342A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 汉斯·波拿佛克;弗雷德里克·格洛伯格 申请(专利权)人: 棱镜传感器公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01D18/00;G01T1/00;G01T7/00;G09B23/28
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 李健
地址: 瑞典斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于具有x射线源和x射线检测器的x射线成像系统的校准体模。该校准体模(5)包括至少三种不同类型和/或组成的几何物体(1,2,3)的组合,这些几何物体包括:‑位于中间的第一物体(1),包括第一材料;‑围绕该第一物体的外围布置的多个第二物体(2),该多个第二物体的至少一个子集包括不同于该第一材料的第二材料,其中,该第一物体相对大于这些第二物体;‑围绕该第一物体的外围和/或围绕这些第二物体的至少一个子集的外围布置的多个第三物体(3),该多个第三物体的至少一个子集包括不同于该第一材料和该第二材料的第三材料,其中,这些第三物体相对小于这些第二物体。
搜索关键词: 射线 成像 系统 校准
【主权项】:
暂无信息
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