[发明专利]活性物质在审
| 申请号： | 202080013976.6 | 申请日： | 2020-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN113424339A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 光本徹也;井手仁彦;甲斐拓也 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | H01M4/38 | 分类号： | H01M4/38;C01B33/02;C01B33/06;H01M4/134;H01M4/58;H01M10/052;H01M10/0562 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
提供一种能够提高循环特性、能够降低或消除放电曲线中的平台区域、进而还能够提高高倍率特性的新的活性物质。该活性物质为含有硅和化学式M |
||
| 搜索关键词： | 活性 物质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井金属矿业株式会社，未经三井金属矿业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080013976.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
