[发明专利]异源核酸的最适PS修饰模式在审
| 申请号： | 202080015872.9 | 申请日： | 2020-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN113453727A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 横田隆徳;原伦太朗;永田哲也;木泽秀树;高木钢 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东京医科齿科大学 |
| 主分类号： | A61K48/00 | 分类号： | A61K48/00;C12N15/113;A61K31/711 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供反义链中的PS修饰的数量减少且维持反义效果的双链核酸复合物。本发明公开了双链核酸复合物的最适PS修饰模式。包含具有这种最适PS修饰模式的反义链的核酸复合物的特征在于毒性低且生物利用率高。将包含具有本发明的最适PS修饰模式的反义链的双链核酸复合物作为核酸医药使用时是有用的，所述核酸医药利用使特定基因的表达的阻碍(敲除)、特定基因的编码或非编码RNA的功能变化的活性、或者通过在特定基因的前mRNA的加工中诱导外显子跳读使RNA的功能变化的活性。 | ||
| 搜索关键词： | 核酸 ps 修饰 模式 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立大学法人东京医科齿科大学，未经国立大学法人东京医科齿科大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080015872.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：双模式叶轮组件和通风单元
- 下一篇：热熔粘接剂的制造方法以及热熔粘接剂
