[发明专利]形成CNT-BNNT纳米复合护膜的方法在审
| 申请号： | 202080015893.0 | 申请日： | 2020-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN113498492A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 苏克蒂·查特吉;尤里·梅尔尼克;普拉文·K·纳万克尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/22;C09C3/06;B01J23/745;B01J23/755;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的多个实施方式一般涉及用于远紫外光刻系统的纳米复合护膜。护膜包括排列成平面片的多个碳纳米管，多个碳纳米管由多个金属催化剂点滴形成。以氮化硼的第一共形层涂布多个碳纳米管。此护膜可包括随着氮化硼的第一共形层同时形成的多个氮化硼纳米管。此护膜可包括设置在氮化硼的第一共形层上的碳纳米管涂层和设置在碳纳米管涂层上氮化硼的第二共形层或氮化硼纳米管。此护膜是UV透明且在氢自由基环境中是非反应性的。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 cnt bnnt 纳米 复合 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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