[发明专利]极紫外光源中的目标提供控制装置和方法在审
| 申请号： | 202080016586.4 | 申请日： | 2020-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN113475164A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | T·W·德赖森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳;闫昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种用于极紫外(EUV)光源的目标装置(300)包括目标发生器、传感器模块(130)和目标发生器控制器(325)。目标发生器包括被配置为容纳在等离子体状态下产生EUV光的目标材料(114)的容器(115)和与容器流体连通的喷嘴结构(117)。目标发生器在喷嘴结构中限定开口(119)，从容器接收的目标材料通过该开口被释放。传感器模块被配置为：当目标材料沿着朝向目标空间(112)的轨迹行进时，检测与从开口释放的目标材料相关的方面，并且从检测到的方面产生一维信号。目标发生器控制器与传感器模块和目标发生器通信，并且被配置为基于对一维信号的分析来修改目标材料的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 光源 中的 目标 提供 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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