[发明专利]用于模型校准的改进量规选择在审
| 申请号： | 202080017459.6 | 申请日： | 2020-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN113508339A | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 王磊;冯牧;赵谦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文中描述了用于量规选择的方法(900)。可以在校准与图案化过程相关联的过程模型时使用进行量规选择的方法。所述方法(900)涉及，在(P902)处，获得输入量规(902)的集合，所述输入量规的集合具有与所述图案化过程相关联的一个或更多个形状(例如，量规名称、权重、剂量、焦距、模型误差等)；在(P904)处，从初始量规的集合(902)选择初始量规的子集(904)，选择初始量规的子集包括：基于所述一个或更多个形状的第一性质参数，从初始量规的集合确定量规的第一子集，量规的所述第一子集被配置成校准过程模型(例如，光学模型、抗蚀剂模式，等等)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 模型 校准 改进 量规 选择 | ||
【主权项】：
暂无信息
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