[发明专利]用于光学测量的测量系统在审
申请号: | 202080018998.1 | 申请日: | 2020-01-31 |
公开(公告)号: | CN113574345A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | L·托贝沙特;C·格鲁伯;T·维斯培特纳 | 申请(专利权)人: | 微-埃普西龙光电股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25;G01B21/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 亓云;顾嘉运 |
地址: | 德国兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于光学测量,特别是用于测量距离和/或位置和/或速度和/或颜色的测量系统,定义了至少一个外部固定点以及至少一个内部固定点,该外部固定点定义了外部坐标系或位于其中,该内部固定点定义了内部坐标系或位于其中。这两个坐标系相对彼此具有明确的位置,这意味着系统的调整或校准。 | ||
搜索关键词: | 用于 光学 测量 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于微-埃普西龙光电股份有限公司,未经微-埃普西龙光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202080018998.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。