[发明专利]用于高深宽比蚀刻的等离子体蚀刻工具在审

专利信息
申请号: 202080021021.5 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN113574628A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 索斯藤·利尔;伊凡·L·贝里三世;西奥多罗斯·帕纳戈普路斯 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/3065
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 樊英如;张静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 利用等离子体蚀刻设备以蚀刻高深宽比特征,该等离子体蚀刻设备可以在使低能量的反应性物质的负离子加速与使高能量的惰性气体物质的正离子加速之间交替进行。该等离子体蚀刻设备可被分成至少两个区域,其将等离子体产生空间与离子化空间分隔开。在等离子体产生空间中点燃等离子体时,可通过离子化空间中的电子附着离子化而产生反应性物质的负离子。在等离子体产生空间中等离子体熄灭时,可通过离子化空间中的潘宁离子化而产生惰性气体物质的正离子。
搜索关键词: 用于 高深 蚀刻 等离子体 工具
【主权项】:
暂无信息
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