[发明专利]EUV光源中的目标材料控制在审
| 申请号： | 202080021251.1 | 申请日： | 2020-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN113711697A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | A·L·G·戈文达拉朱;D·贝塞姆斯;桑迪普·莱;P·A·威廉斯;S·金卡尔;J·M·卢肯斯;J·D·特德罗 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种设备，该设备包括第一储存器系统、第二储存器系统、注入系统和流体控制系统，第一储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间与喷嘴供应系统流动连通的第一储液器，第二储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间的时间中的至少部分时间与第一储存器系统流动连通的第二储液器，注入系统被配置为从固体物质产生流体目标材料，流体控制系统被流动连接到注入系统、第一储存器系统、第二储存器系统和喷嘴供应系统。流体控制系统被配置为在喷嘴供应系统的操作期间：将至少一个储液器和喷嘴供应系统与注入系统隔离，并且保持在至少一个储液器与喷嘴供应系统之间的流体流动路径。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光源 中的 目标 材料 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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