[发明专利]EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法有效
申请号: | 202080021545.4 | 申请日: | 2020-03-09 |
公开(公告)号: | CN113574079B | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | 崎田享平 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C08F220/16 | 分类号: | C08F220/16;C08F220/22;G03F7/039;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 薛海蛟 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够形成桥接缺陷抑制性及残膜区域中的膜减少抑制性优异的图案的EUV光用感光性组合物。并且,提供一种图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物包含树脂X及光产酸剂,所述树脂X由于酸的作用而极性增加,在碱显影液中的溶解度增加,在有机溶剂中的溶解度减少,或者包含树脂Y,所述树脂Y包含具有光酸产生基团的重复单元,且由于酸的作用而极性增加,在碱显影液中的溶解度增加,在有机溶剂中的溶解度减少,并且均满足必要条件1及必要条件2。 | ||
搜索关键词: | euv 感光性 组合 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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