[发明专利]晶体氧化物薄膜、层叠体以及薄膜晶体管有效
| 申请号： | 202080023273.1 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113614276B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 川岛绘美;井上一吉;大山正嗣;柴田雅敏 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C30B29/22;H01L29/786 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 陈亦欧;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明涉及一种晶体氧化物薄膜，其包含In元素、Ga元素以及Ln元素，In元素为主成分，Ln元素是从La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb以及Lu构成的组中选择的一种以上的元素，平均晶体粒径D |
||
| 搜索关键词： | 晶体 氧化物 薄膜 层叠 以及 薄膜晶体管 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于出光兴产株式会社，未经出光兴产株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080023273.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
