[发明专利]低比电阻物质处理方法及处理装置在审
| 申请号： | 202080024784.5 | 申请日： | 2020-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN114072236A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 唐万福;王大祥;段志军;奚勇 | 申请（专利权）人： | 上海必修福企业管理有限公司 |
| 主分类号： | B03C3/04 | 分类号： | B03C3/04;B03C3/45 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201112 上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种低比电阻物质处理方法及处理装置，处理方法包括如下步骤：用导电极(301)将电子传导给低比电阻物质，使低比电阻物质带电；用吸附极(302)吸引带电的低比电阻物质，使带电的低比电阻物质向所述吸附极(302)移动。通过传导电子的方式使低比电阻物质带电，克服了低比电阻物质带电后容易失电所带来的问题，使得低比电阻物质在失去电子后又能快速得到电子，增加了使低比电阻物质带电的几率，并使得低比电阻物质保持带电状态，这样，吸附极(302)就能持续给低比电阻物质施加吸引力，以将低比电阻物质吸附住，并使得本低比电阻物质处理方法对低比电阻物质的收集能力强、收集效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 电阻 物质 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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